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劉俊宏
助理教授
電機資訊學院 電機工程學系
技術名稱en
利用電子散射判斷材料能量反應的方法
研究專長en
奈米積體電路光學及電子束微影技術與製程
VLSI電子設計自動化
技術摘要en
本技術是以電子束微影角度分析電子散射之方法,取得平均原子間距(d)再加入散射截面積(σ)計算,得出該材料內平均原子空間結構可產生之前向或背向散射比例(ω),並避開中子之計算,得以精準分析該材料內電子散射情形。其中,d值正比於電子相互作用體積,而材料的ω也直接影響電子相互作用體積大小 由數值模擬結果顯示ω與電子相互作用體積成反比,因此同時檢視d與ω得以直接正確地判斷吸收層內電子相互作用體積大小。
運用於半導體晶片製造產業,於台灣如台積電、聯電、世界先進、力積電等積體電路製造廠商。
運作技術成熟度en
TRL1:基礎原理發現
專利名稱en
利用電子散射判斷材料能量反應的方法
申請國家en
中華民國
專利類型en
發明
專利證書號en
I812427
專利期間en
自2022/8/24起至2026/08/10止
專利說明en
一種利用電子散射判斷材料能量反應的方法,包括算出該材料之平均原子間距( d),其計算公式為: ( n)為該材料之組成原子數,( ρ)為該材料的密度,( N0)為亞佛加厥常數,( i)為該材料的原子排序,( F i)為原子( i)的原子分數,( A i)為原子( i)的原子量,該材料之平均原子間距( d)與電子相互作用體積成反比關係,藉此可以分析該材料的能量反應。
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[劉俊宏]利用電子散射判斷材料能量反應的方法
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